学术报告通知
2015-12-01 11:24 来源:未知 浏览:次
同步辐射X射线衍射方法及其在铁电和半导体材料中的应用
报告人：杨铁莹中科院上海应用物理研究所，上海光源
报告时间：2015年12月4日下午2:30-4:00
地点：材料学院205会议室
报告摘要：
上海光源是最目前世界上最先进的中能同步辐射光源之一。上海光源衍射光束线站着眼于材料科学、凝聚态物理等领域，以多晶粉末、薄膜/超薄膜的表面和界面、纳米材料的微结构等为主要研究对象。高分辨粉末衍射、掠入射衍射、反射率，倒空间绘制、极图是目前使用最广泛的实验方法。利用这些实验方法我们研究了铁电薄膜，氧化物半导体薄膜的微结构；首次发现BiFeO3薄膜表面存在双层结构，对铁电薄膜和器件研究具有重要价值；揭示了透明导电氧化物薄膜微结构与光电性能的关系。
报告人简介：
杨铁莹，男，博士，中国科学院上海应用物理研究所副研究员，中国科学院创新促进会会员。2005年毕业于郑州大学物理学专业，2010年获中国科学院高能物理研究所凝聚态物理专业博士学位。目前在上海光源衍射线站工作，具体负责上海光源二期微束白光劳厄衍射线站的设计工作，从事同步辐射衍射、散射实验方法，宽禁带半导体和铁电薄膜微结构等方面的研究。目前主持基金项目4项，目前在国内外期刊发表文章20余篇。